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          半導(dǎo)體技術(shù)知識(shí)-半導(dǎo)體元器件FET場(chǎng)效應(yīng)管分類與技術(shù)詳解
          • 發(fā)布時(shí)間:2020-05-28 15:35:33
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          半導(dǎo)體技術(shù)知識(shí)-半導(dǎo)體元器件FET場(chǎng)效應(yīng)管分類與技術(shù)詳解
          作為和雙極型晶體管三極管對(duì)應(yīng)的一種單極型晶體管就是FET場(chǎng)效應(yīng)管,所謂的場(chǎng)效應(yīng)就是利用電場(chǎng)的效應(yīng)來控制器件導(dǎo)通。這里場(chǎng)效應(yīng)管也有幾種分類:
          半導(dǎo)體,場(chǎng)效應(yīng)管
          JFET伏安特性曲線
          半導(dǎo)體,場(chǎng)效應(yīng)管
          過程分析:
          1、VDS不變,隨著GS電壓反向增大時(shí),PN之間的耗盡層增大,意思是由于電場(chǎng)作用導(dǎo)致P區(qū)邊緣聚集更多空穴,這樣中間的溝道越來越小,最后溝道被夾斷。這個(gè)過程中DS之間的電阻越來越大,實(shí)際上是一個(gè)受控于VGS的可變電阻。
          2、VGS不變,隨著VDS電壓增大,電流通過溝道,這樣也導(dǎo)致沿著溝道有電位梯度差,就是每個(gè)點(diǎn)的VGS不一樣了。這樣形成的溝道寬度每個(gè)點(diǎn)都不一樣。因此,VDS增大同時(shí)又會(huì)導(dǎo)致溝道變窄,阻礙電流,但是一定范圍內(nèi),VDS還是以增大電流為主。
          VDS繼續(xù)增大,當(dāng)溝道開始夾斷時(shí),夾斷區(qū)域隨著VDS增大沿著溝道不斷擴(kuò)大,這個(gè)時(shí)候,VDS對(duì)電流的推動(dòng)作用和隨之變大的DS之間電阻對(duì)電流的阻礙作用基本抵消,漏電流處于飽和狀態(tài),直到溝道完全夾斷。
          溝道完全夾斷后,電壓繼續(xù)增大,漏電流也會(huì)增大,最終擊穿損壞。如上面圖中的特性曲線所示 :
          半導(dǎo)體,場(chǎng)效應(yīng)管
          3、如上分析:在夾斷之前為可變電阻區(qū)(放大區(qū)),夾斷中為恒流區(qū)(飽和區(qū)),VGS小于開啟電壓時(shí)關(guān)斷(截止區(qū))。
          可以知道VGS越大,VDS的開始夾斷電壓就越小,因?yàn)榉聪虻腣GS本來就是形成耗盡層的電壓動(dòng)力。和不斷增大的VDS同向。
          JFET的特性
          1、溝道在半導(dǎo)體內(nèi)部,噪聲極小。知道這一點(diǎn)就夠了,看一些精密運(yùn)放設(shè)計(jì)就明白了所謂的前級(jí)輸入為JFET的優(yōu)勢(shì)。
          為了進(jìn)一步提高輸入阻抗,輸入級(jí)柵極采用了Sio2和鋁。這樣完全絕緣可以使得輸入阻抗高達(dá)10的15次方歐姆,這樣功耗也會(huì)更低。
          半導(dǎo)體,場(chǎng)效應(yīng)管
          NMOS的結(jié)構(gòu)就是在P型襯底上擴(kuò)散形成兩個(gè)N型區(qū),這樣在表面形成導(dǎo)電溝道。MOS管里所有的PN結(jié)必須 保證反偏,因此,在以P型為襯底的NMOS管結(jié)構(gòu)中,襯底接地GND,而PMOS的襯底必須接電源VCC。
          半導(dǎo)體,場(chǎng)效應(yīng)管
          過程分析:
          1、類似于上面的JFET,VGS正向增大時(shí),VGS>VTH, 在Sio2表面開始聚集電子,逐漸形成N型的溝道。這時(shí)MOS管類似一個(gè)受控于VGS的可變電阻.VDS=0時(shí)形成的是電位均勻的導(dǎo)電溝道。
          半導(dǎo)體,場(chǎng)效應(yīng)管
          2、當(dāng)VGS>VTH,且VDS
          半導(dǎo)體,場(chǎng)效應(yīng)管
          3、當(dāng)VGS>VTH,且VDS>VGS-VTH時(shí),這時(shí)由于VDS過大,造成靠近D端的溝道開始被夾斷了,因?yàn)閂GS和VDS在溝道上的電場(chǎng)作用是相反的。夾斷點(diǎn)慢慢右移,參考JFET溝道,此時(shí)電流基本恒定,處于飽和區(qū)。
          半導(dǎo)體,場(chǎng)效應(yīng)管
          4、VDS繼續(xù)增大的話就會(huì)造成MOS管擊穿,MOS的擊穿有幾種可能:
          (1)VDS足夠大,漏極D和襯底之間的反偏二極管雪崩擊穿。
          (2)DS之間擊穿,穿通擊穿。
          (3)最容易擊穿的是柵極,很薄的Sio2層,因此必須加以保護(hù),不使用時(shí)接電位處理。
          耗盡型MOS:
          耗盡型MOS的特點(diǎn)就是VGS為負(fù)壓時(shí)導(dǎo)通,實(shí)際應(yīng)用中太少,就不說了。
          MOS管放大電路:
          MOS管的放大電路參考與三極管,同樣也分為共源極、共柵極、共漏極放大器。然后提供偏壓讓MOS管工作在線性區(qū)。
          半導(dǎo)體,場(chǎng)效應(yīng)管
          半導(dǎo)體,場(chǎng)效應(yīng)管
          半導(dǎo)體,場(chǎng)效應(yīng)管
          功率MOSFET
          這里介紹一下用作大功率器件的MOS管,因?yàn)槟壳霸诠β蕬?yīng)用領(lǐng)域相關(guān)器件種類很多。
          作為功率和非功率型MOSFET在結(jié)構(gòu)上是有很大區(qū)別的:
          半導(dǎo)體,場(chǎng)效應(yīng)管
          功率MOS的基本結(jié)構(gòu)DMOS:雙擴(kuò)散型MOS。
          D和S極面對(duì)面,耐壓值高。
          半導(dǎo)體,場(chǎng)效應(yīng)管
          MOS管特性參數(shù)
          以NMOS管IRF530N為例
          半導(dǎo)體,場(chǎng)效應(yīng)管
          在不同應(yīng)用條件下我們關(guān)注的參數(shù)還是差別蠻大的。
          1、IDS:工作電流,大功率應(yīng)用時(shí)要保證余量。
          2、PD:功率。
          3、VGS:柵極電壓,不能過大擊穿。
          4、VTH:柵極開啟電壓,一般在幾V。
          5、RDS(on):導(dǎo)通電阻,決定了DS之間的壓降,越小越好,一般在幾十毫歐。
          6、IGSS:柵極漏電流。
          7、IDSS:源漏之間漏電流,在一些小電流應(yīng)用中要特別注意漏電流參數(shù)的影響。
          8、Cgs:柵極電容,決定了開啟速度。
          9、Gm:低頻跨導(dǎo),反應(yīng)VGS對(duì)電流的控制能力,在放大應(yīng)用中注意。
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